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第982章 陈总，你们准备好了吗？
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“第三，计算光刻（OPC）的算力与算法地狱。
DUV+多重曝光，使得OPC的计算复杂度和数据量呈指数级增长。
我们需要更智能、更快速、更精准的OPC解决方案，这是确保设计图形能被正确‘印刷’到硅片上的生命线！”
“第四，基于大数据的智能良率预测与优化。
N+1初始良率注定低迷。
我们需要EDA工具能在设计阶段，就结合工艺数据，精准预测良率瓶颈，指导设计优化，这是提升良率、控制成本的关键。
我们更需要EDA工具不断优化、迭代和更新改良。”
他一口气说完，目光灼灼地盯住陈默：
“陈总，这不是请求，这是N+1良品率爬坡战役的前提条件。
您那边的工具链，必须跑在工艺成熟的前面，必须能支撑更复杂的N+1、N+2设计规则和模型。
你们，准备好了吗？”
面对这沉甸甸的压力，陈默嘴角反而勾起一丝弧度。
终于轮到自己装逼了吗？
他没有立刻辩解，而是不疾不徐地操作电脑，将投影切换至一幅更为精密、动态的技术架构图。
图上，三条代表不同技术路径的光流：
代表射频与3D仿真的金色、代表器件建模与基础的蓝色、代表数字后端与AI驱动的紫色。
他们不再是孤立前行，而是在数个关键节点紧密缠绕、融合，最终汇聚成一道璀璨的白色光柱直冲向上。
“孟教授的问题，刀刀见血，也正是EDA领域的世纪难题。”
陈默的声音平稳响起，从容又淡定。
“但幸运的是，您提到的这些‘拦路虎’，在过去两年的时间里，正是我们EDA产品线的‘尖刀连’即钟耀祖的‘数字后端与AI驱动研发部’夜以继日攻克的对象。”
他语气一顿，目光扫过全场。
最后落在孟良凡和冯庭波脸上，带着一种“请看大屏幕”的自信。
“光说不练假把式。
接下来，我将重点展示，钟耀祖的数字后端与AI驱动研发部，如何与我们另外两大部门协同，将您提出的挑战，转化为我们N+1良品率战役的绝对优势。”
“首先，是设计规则的复杂性与模型精度问题。” 陈默轻点激光笔，画面切换到BalOng 5000射频前端LNA模块的复杂版图。
“还记得那个让我们头疼的0.48%，以及优化后依然存在的0.18%吗？”
他故意提起这个“伤疤”，引得冯庭波眉头一皱。
“问题的根源，在于传统EDA工具无法完美处理高频下的3D电磁效应与底层器件物理的耦合。
张哲博士的3D EM引擎精度够高，李维明博士的器件模型足够扎实，但如何让它们在钟耀祖的后端设计流程中‘无缝对话’，是关键。”
陈默操作界面，调出一段实时演示。
“我们把之前摩擦不断的‘混沌’协议升级到了支持数据总线与智能接口协议的2.0版本。
它不仅仅是数据传输，更内嵌了AI驱动的语义理解模块。
现在，当张哲博士的3D EM仿真数据流入钟耀祖的‘盘古’P&R引擎时，‘盘古’能自动识别关键电磁敏感区域，并在布局布线阶段主动规避，同时将优化后的结构反馈给3D EM引擎进行快速验证。”
画面中，代表电磁干扰的红色区域在“盘古”引擎的驱动下迅速变为安全的绿色，迭代速度比传统方法快了数十倍。
“而李维明博士的精密器件模型，则通过‘混沌’总线，直接赋能钟耀祖团队的‘伏羲’AI时序收敛助手。
‘伏羲’不再依赖粗略的时序模型，而是基于接近物理真实的器件行为进行预测和优化。
结果就是——”
陈默展示出一组对比数据：
“在BalOng 5000 LNA模块的最终版图上，我们不仅将偏差从0.18%压到了0.05%以内，远超设计预期，而且将时序收敛的迭代次数从平均35次压缩到了惊人的3次。
冯总，海思的同事告诉我，他们节省了将近三周的调试时间。”
冯庭波眼中精光爆射，忍不住脱口而出：“是的，整整三周！”
这对于争分夺秒的芯片流片窗口期，价值无可估量。
陈默微笑颔首：“这就是协同的力量，也是自主工具链深度整合带来的降维打击。”
“其次，是关于孟教授提到的计算光刻算力地狱。”
陈默语气转为铿锵：
“OPC（光学临近校正）确实是N+1多重曝光下的噩梦。
传统方法耗时数周，且精度难以保证。”
他切换到一个极具视觉冲击力的界面：
一边是传统OPC校正后依然存在毛刺和畸形的图形，另一边则是光滑完美、如同艺术品的修正结果。
“钟耀祖团队，基于其强大的AI算法底蕴，开发了‘女娲’AI-OPC系统。
基于自研异构计算架构和新算法，在处理N+1复杂度版图时，计算效率已达国际主流工具95%，且在特定图形补偿精度上有5-10%优势。
自研工具与自研PDK的深度定制优势，是外购工具无法比拟的。
另外它采用深度强化学习与生成对抗网络（GAN）结合的方式，不再是机械地遵循规则，而是‘理解’光刻机的成像物理过程，直接生成最优的校正图形。”
陈默展示了一组震撼的数据：
“在BalOng 5000的某个关键层，采用‘女娲’系统，将OPC计算时间从传统的14天缩短到18小时，同时校正精度提升40%，有效预测并规避了3处潜在的光刻热点。
这意味着，我们不仅能更快地拿到可生产的掩膜版，更能从源头提升流片良率。”
孟良凡激动地直接站了起来：
“18小时？！陈总，你确定这是基于我们N+1工艺复杂规则的结果？
这......这简直是奇迹！”
作为工艺专家，他太清楚这背后意味着什么了。
陈默淡然一笑：
“孟教授，奇迹源于积累。
‘女娲’系统的训练，离不开张哲博士3D EM引擎提供的精确电磁场数据，以及李维明博士团队提供的器件物理边界条件。
是他们夯实了基础，钟耀祖的AI才能挥洒自如。
系统的训练也是近期才完成的。”
DUV+多重曝光，使得OPC的计算复杂度和数据量呈指数级增长。
我们需要更智能、更快速、更精准的OPC解决方案，这是确保设计图形能被正确‘印刷’到硅片上的生命线！”
“第四，基于大数据的智能良率预测与优化。
N+1初始良率注定低迷。
我们需要EDA工具能在设计阶段，就结合工艺数据，精准预测良率瓶颈，指导设计优化，这是提升良率、控制成本的关键。
我们更需要EDA工具不断优化、迭代和更新改良。”
他一口气说完，目光灼灼地盯住陈默：
“陈总，这不是请求，这是N+1良品率爬坡战役的前提条件。
您那边的工具链，必须跑在工艺成熟的前面，必须能支撑更复杂的N+1、N+2设计规则和模型。
你们，准备好了吗？”
面对这沉甸甸的压力，陈默嘴角反而勾起一丝弧度。
终于轮到自己装逼了吗？
他没有立刻辩解，而是不疾不徐地操作电脑，将投影切换至一幅更为精密、动态的技术架构图。
图上，三条代表不同技术路径的光流：
代表射频与3D仿真的金色、代表器件建模与基础的蓝色、代表数字后端与AI驱动的紫色。
他们不再是孤立前行，而是在数个关键节点紧密缠绕、融合，最终汇聚成一道璀璨的白色光柱直冲向上。
“孟教授的问题，刀刀见血，也正是EDA领域的世纪难题。”
陈默的声音平稳响起，从容又淡定。
“但幸运的是，您提到的这些‘拦路虎’，在过去两年的时间里，正是我们EDA产品线的‘尖刀连’即钟耀祖的‘数字后端与AI驱动研发部’夜以继日攻克的对象。”
他语气一顿，目光扫过全场。
最后落在孟良凡和冯庭波脸上，带着一种“请看大屏幕”的自信。
“光说不练假把式。
接下来，我将重点展示，钟耀祖的数字后端与AI驱动研发部，如何与我们另外两大部门协同，将您提出的挑战，转化为我们N+1良品率战役的绝对优势。”
“首先，是设计规则的复杂性与模型精度问题。” 陈默轻点激光笔，画面切换到BalOng 5000射频前端LNA模块的复杂版图。
“还记得那个让我们头疼的0.48%，以及优化后依然存在的0.18%吗？”
他故意提起这个“伤疤”，引得冯庭波眉头一皱。
“问题的根源，在于传统EDA工具无法完美处理高频下的3D电磁效应与底层器件物理的耦合。
张哲博士的3D EM引擎精度够高，李维明博士的器件模型足够扎实，但如何让它们在钟耀祖的后端设计流程中‘无缝对话’，是关键。”
陈默操作界面，调出一段实时演示。
“我们把之前摩擦不断的‘混沌’协议升级到了支持数据总线与智能接口协议的2.0版本。
它不仅仅是数据传输，更内嵌了AI驱动的语义理解模块。
现在，当张哲博士的3D EM仿真数据流入钟耀祖的‘盘古’P&R引擎时，‘盘古’能自动识别关键电磁敏感区域，并在布局布线阶段主动规避，同时将优化后的结构反馈给3D EM引擎进行快速验证。”
画面中，代表电磁干扰的红色区域在“盘古”引擎的驱动下迅速变为安全的绿色，迭代速度比传统方法快了数十倍。
“而李维明博士的精密器件模型，则通过‘混沌’总线，直接赋能钟耀祖团队的‘伏羲’AI时序收敛助手。
‘伏羲’不再依赖粗略的时序模型，而是基于接近物理真实的器件行为进行预测和优化。
结果就是——”
陈默展示出一组对比数据：
“在BalOng 5000 LNA模块的最终版图上，我们不仅将偏差从0.18%压到了0.05%以内，远超设计预期，而且将时序收敛的迭代次数从平均35次压缩到了惊人的3次。
冯总，海思的同事告诉我，他们节省了将近三周的调试时间。”
冯庭波眼中精光爆射，忍不住脱口而出：“是的，整整三周！”
这对于争分夺秒的芯片流片窗口期，价值无可估量。
陈默微笑颔首：“这就是协同的力量，也是自主工具链深度整合带来的降维打击。”
“其次，是关于孟教授提到的计算光刻算力地狱。”
陈默语气转为铿锵：
“OPC（光学临近校正）确实是N+1多重曝光下的噩梦。
传统方法耗时数周，且精度难以保证。”
他切换到一个极具视觉冲击力的界面：
一边是传统OPC校正后依然存在毛刺和畸形的图形，另一边则是光滑完美、如同艺术品的修正结果。
“钟耀祖团队，基于其强大的AI算法底蕴，开发了‘女娲’AI-OPC系统。
基于自研异构计算架构和新算法，在处理N+1复杂度版图时，计算效率已达国际主流工具95%，且在特定图形补偿精度上有5-10%优势。
自研工具与自研PDK的深度定制优势，是外购工具无法比拟的。
另外它采用深度强化学习与生成对抗网络（GAN）结合的方式，不再是机械地遵循规则，而是‘理解’光刻机的成像物理过程，直接生成最优的校正图形。”
陈默展示了一组震撼的数据：
“在BalOng 5000的某个关键层，采用‘女娲’系统，将OPC计算时间从传统的14天缩短到18小时，同时校正精度提升40%，有效预测并规避了3处潜在的光刻热点。
这意味着，我们不仅能更快地拿到可生产的掩膜版，更能从源头提升流片良率。”
孟良凡激动地直接站了起来：
“18小时？！陈总，你确定这是基于我们N+1工艺复杂规则的结果？
这......这简直是奇迹！”
作为工艺专家，他太清楚这背后意味着什么了。
陈默淡然一笑：
“孟教授，奇迹源于积累。
‘女娲’系统的训练，离不开张哲博士3D EM引擎提供的精确电磁场数据，以及李维明博士团队提供的器件物理边界条件。
是他们夯实了基础，钟耀祖的AI才能挥洒自如。
系统的训练也是近期才完成的。”